在高新科技领域有很多方面我们都占据着数一数二的地位。我们有世界上首台超越早期经典计算机的量子计算机，在取样速度上相比于传统计算机有了质的改变。我们有自己的大飞机，从而打破了波音和空客两大巨头的垄断。此外在新能源、5G网络、手机屏幕、超级计算机等等领域也都有很大的发展。然而就像之前网路上流传的消息那样，国内目前连圆珠笔的笔芯那个小钢球都生产不出来。这个消息不一定是真的，不过也从侧面显示出国内某些领域内的不足之处。但是近期在科技领域内又传来了一个好消息。
11月30号，据媒体报道，由中国科学院光电技术研究所主导的项目超分辨光刻装备研制29日通过验收。该光刻机光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。
大家可能不太了解光刻机是什么，其实它是手机芯片生产过程中，必不可少的装备。在我国光刻机的技术一直处于落后的局面，也使得芯片制造难以发展。一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高。芯片的体积也就越小，体积越小它在运行的时候消耗的能量就越少，质量也就越好。
光刻机是生产芯片时最关键的设备，也被称为半导体产业皇冠上的明珠。光刻工艺能力的强弱决定了半导体线路的线宽，从而也就决定了芯片的性能和功耗。我们玩手机的时候，手机会不会发烫，手机的续航能力强不强持续玩手机会不会电量消耗的很快，都与芯片的制造水平有很大关系。
其实你一定想不到如此高端的光刻机的原理是由拍照技术演变进化而来。简单的说光刻机就是放大的单反。光刻机将光罩上设计好的集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，就形成图形，也就是我们想要的集成电路。
在此之前光刻机的技术一直被国外垄断，而且还有技术壁垒，对一些国家就算给钱也不会卖给你。目前全世界市场上主要只有三家企业可以生产商用光刻机。
最大的光刻机巨头时荷兰的光刻机巨头ASML，目前自从尼康和佳能退出高端光刻机市场之后，只有他一家独大。当今最新的是ASML第二代EUV（极紫外光）光刻机每台售价超1亿美金，不过对大陆禁售。估计他们也怕卖给中国之后，会被仿制出来。
许多人都知道尼康的照相机质量很好，但是却不知道尼康的光刻机也同样是享誉全球。另一方面它的价格也非常优惠，同类机型价格不到ASML的一半。但是后来英特尔，三星和台积电都成为ASML的股东了，不在采购尼康的光刻机，这也给尼康光刻机带来了非常大的打击。
至于佳能目前只有少数低阶的老机龄的光刻机是他们家的产品，佳能从年开始逐步退出芯片曝光机业务，而专注于打印机业务。
这次中国科学院光电技术研究所的科学家们在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。
科学家还表示这次技术的进步为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。未来我们也可以制造自己的芯片，改变国内目前芯片制造的短板。
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