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明天就是9.15日了，是台积电正式和华为停止合作的日子，希望这只是暂时的。
台积电目前为止应该是没有对手的，就算是三星目前来看，也无法和它抗衡。台积电基本上垄断了整个高端芯片代工市场，离开了台积电，华为芯片只能停产了。然而台积电的光刻机也是来着荷兰的ASML。
那我们是否能自己研发高端光刻机呢？
研发是要研发的，但是很难，就拿现在的7nm光刻机来说，不用说镜头，光源等核心部件，就说说这个反射光用的镜子，那个镜子的直径如果放大到和地球直径那么大的话，镜面 处和 处不能超过一根头发丝的厚度，也就是0.7㎜。注意是放大到地球直径哦！目前我们的制造业水平还不能达到这个水平，我们在几年前才刚刚可以制造圆珠笔那个小圆珠，现在对我们来说制造高端光刻机真的很难。
有人说，我们可以在新中国建立初期那么恶劣的条件下造出核弹，氢弹，现在这个条件制造光刻机应该不是难事。我觉得这种观点是错误的，有点偷换概念的意思。
核弹氢弹的原理不是很难，而且对制造业水平和技术也不是很难。但是光刻机就不一样了，现在荷兰ASML的光刻机可不是一个国家的技术，是来自多国的技术。有来自美国的光源，德国的机械，日本的光学技术等等。没有一个国家可以完完全全自主生产，我们想要完完全全自主制造光刻机绝非易事。而且 不比制造核弹氢弹简单，甚至要更难。
我们要想弯道超车，不是很简单，但是我们不能因此就放弃。
我们自己的光刻机大概2年左右就可以制造出来，应该是来自中科院，不过好像是7nm工艺的也就是年，年，台积电的3nm工艺大概就已经试产或者量产了。我们还是要落后，说句实话5nm相比于7nm工艺芯片性能和功耗控制的提升就不止一点点。就不要说7nm和3nm的差距了。
可是对我们来说， 不是仅仅有了7nm光刻机可以自主生产7nm芯片那么简单，而且从无到有，从零到一的突破，有了7nm我们就有机会往下发展然后实现突破和超越。
而且除了光刻机还有光刻胶，还有其他专利和技术，这些我们都很容易被人卡脖子，总体来说，我们处境艰难。
但是我们绝不会因此放弃，这是一定的，我们中国人就是这样的，越挫越勇，不怕困难更不怕艰苦，要不也不会有年的历史。但是光刻机这个东西，我们暂时还无法制造生产，还需要时间的沉淀和投入。
